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激光共聚焦显微镜系统

简要描述:VT6000激光共聚焦显微镜系统以共聚焦技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等,可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等,提供依据ISO/ASME/EUR/GBT四大国内外标准共计300余种2D、3D参数作为评价标准。

  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-12-20
  • 访  问  量:323

详细介绍

品牌中图仪器产地国产
加工定制

VT6000激光共聚焦显微镜系统以共聚焦技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等,可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等,提供依据ISO/ASME/EUR/GBT四大国内外标准共计300余种2D、3D参数作为评价标准。

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产品功能

(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;

(2)设备具备自动拼接功能,能够快速实现大区域的拼接缝合测量;

(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件,预先设置好配置参数再进行测量,软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能,即可快速实现批量测量功能;

(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能;

(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能;

(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能,可实现批量数据文件的快速分析功能;


产品特点

1)结构简单:仪器整体由一台轻量化的设备主机和电脑构成,控制单元集成在设备主机之内,亦可采用笔记本电脑驱动,实现了“拎着走"的便携式设计;

2)真彩图像:配备了真彩相机并提供还原的3D真彩图像,对细节的展现纤毫毕现;

3)操作便捷:采用全电动化设计,并可无缝衔接位移轴与扫描轴的切换,图像视窗和分析视窗同界面的设计风格,实现了所见即所得的快速检测效果;

4)采用自研的电动鼻轮塔台,并对软件防撞设置与硬件传感器防撞设置功能进行了优化,确保共聚焦显微镜在使用高倍物镜仅不到1mm的工作距离时也能应对。

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VT6000激光共聚焦显微镜系统广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。


应用范例

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应用场景

1、镭射槽

测量晶圆上激光镭射槽的深度:半导体后道制造中,在将晶圆分割成一片片的小芯片前,需要对晶圆进行横纵方向的切割,为确保减少切割引发的崩边损失,会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽,在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。

2、光伏

在太阳能电池制作工程中,栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力,直接影响着太阳能电池的性能。共聚焦显微镜可以对栅线进行快速检测。此外,太阳能电池制作过程中,制绒作为关键核心工艺,金字塔结构的质量影像减反射焰光效果,是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力,能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。

3、其他

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部分技术指标

型号VT6100


行程范围

X100mm
Y100mm
Z100mm
外形尺寸
520*380*600mm
仪器重量50kg
测量原理共聚焦光学系统
显微物镜10×;20×;50×;100×
视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm


高度测量

重复性(1σ)12nm
显示分辨率0.5nm


宽度测量

性(1σ)40nm
显示分辨率1nm
XY位移平台负载10kg
控制方式电动
Z0轴扫描范围10mm
物镜塔台5孔电动
光源白光LED


恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。

如有疑问或需要更多详细信息,请随时联系中图仪器咨询。

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